Putaran Titanium Sputtering Target Forged CNC Machining

Target Titanium Disesuaikan Target Putaran Titanium

Target sputtering titanium dengan kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi meliputi:
Target sputtering titanium (kemurnian: 99,9%-99,999%)

Biasanya kami akan memberikan laporan pemeriksaan kualitas seperti ini dengan barang,

yang menunjukkan komposisi kimia dan sifat fisik

T: Mengapa memilih kami?

A1: Kami memiliki 14 tahun pengalaman untuk pembuatan produk titanium.

A2: pesanan sampel dapat diterima.

A3: harga yang lebih rendah, kualitas yang baik dan waktu pengiriman yang singkat.

A4: Kutipan dapat dilakukan dalam waktu 24 jam.

A5: Sertifikasi ISO9001: 2015

A6: Beri kami gambar, buat gambar dan ide Anda menjadi kenyataan!

A7: Memberikan laporan pemeriksaan kualitas pihak ketiga.

Memproses berbagai target titanium untuk pelapisan:

Target logam: target tungsten, target molibdenum, target tantalum, target niobium, target zirkonium, target kobalt, target vanadium, target tembaga, target platinum, target hafnium, target niobium, target aluminium, target besi, target kromium, target paduan titanium-niobium , target paduan titanium-zirkonium, target paduan titanium-tungsten, target paduan titanium-gui, target titanium-aluminium, target paduan nikel-kromium, target paduan aluminium-kromium, target titanium kemurnian tinggi, target titanium kemurnian ultra-tinggi, target nikel kemurnian tinggi, target tantalum kemurnian tinggi, bahan Target polisilikon, target aluminium kemurnian ultra-tinggi, (99,95% -99,999%),

Klasifikasi: Target pelapisan ion multi-busur, target datar titanium, target tabung putar titanium, pelat belakang target titanium, tabung belakang target titanium

Penggunaan: pelapis alat, pelapis dekoratif, industri elektronik, industri layar panel datar, area luas pelapis kaca Low-E, semikonduktor, LCD, industri energi surya, lensa optik, industri optoelektronik, target pengikatan keramik, target penyemprotan, dll.

Target lapisan sputtering magnetron:
Target pelapisan sputtering logam, target sputtering titanium, target pelapisan sputtering paduan, target pelapisan sputtering keramik, target sputtering keramik borida, target sputtering keramik karbida, target sputtering keramik fluorida, target sputtering keramik nitrida, target keramik oksida, target sputtering keramik selenide, keramik silisida target sputtering, target sputtering keramik sulfida, target sputtering keramik telluride, target keramik lainnya Bahan, target keramik silikon oksida yang didoping krom (Cr-SiO), target indium phosphide (InP), target lead arsenide (PbAs), target indium arsenide (InAs ).