Target Sputtering Titanium Kemurnian Tinggi Permukaan Bubut CNC Untuk Lapisan Kaca

Target Titanium Kemurnian Tinggi Target Titanium Sputtering

Kami dapat menyediakan target titanium bulat, target titanium persegi, target titanium persegi panjang,

atau sesuai dengan kebutuhan atau gambar Anda.

Memberikan laporan pemeriksaan kualitas seperti ini dengan barang,

yang menunjukkan komposisi kimia dan sifat fisik

100% pemeriksaan kualitas, jaminan kualitas.

Pengalaman manufaktur titanium profesional.

Karena kami hanya membuat titanium, kami lebih profesional dalam titanium

Sertifikasi ISO9001: 2015

Layanan pelanggan yang ramah dan waktu pengiriman yang singkat.

Target sputtering titanium terutama digunakan dalam industri elektronik dan informasi seperti sirkuit terpadu, penyimpanan informasi, tampilan kristal cair, memori laser, dan perangkat kontrol elektronik.Mereka juga dapat digunakan di bidang pelapisan kaca.Ini juga dapat digunakan dalam bahan tahan aus, tahan korosi suhu tinggi, produk dekoratif premium dan industri lainnya.

Target sputtering titanium dengan kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi:

Target sputtering titanium (kemurnian: 99,9% -99,999%)

Lapisan sputtering magnetron adalah jenis baru dari metode deposisi fisik.Ada banyak keuntungan nyata dibandingkan metode pelapisan deposisi uap.Sebagai teknologi yang relatif matang dikembangkan, sputtering magnetron telah diterapkan di banyak bidang.Target percikan titanium
Teknologi Sputtering Target Titanium Sputtering

Sputtering adalah salah satu teknologi terkemuka untuk pembuatan bahan film tipis.Ion yang dihasilkan oleh sumber ion digunakan untuk mempercepat dan berkumpul dalam ruang hampa untuk membentuk berkas ion energi cepat, berdampak pada permukaan padat dan bertukar energi kinetik antara ion dan atom permukaan padat.Atom pada permukaan padatan meninggalkan padatan dan mengendap di permukaan substrat.Padatan yang terkena dampak adalah bahan baku untuk menyiapkan film tipis yang diendapkan dengan metode sputtering, yang disebut target sputtering.Berbagai jenis bahan film tipis tergagap banyak digunakan dalam sirkuit terpadu semikonduktor, fotovoltaik, media perekaman, tampilan panel datar, dan pelapis permukaan benda kerja.

Pemrosesan berbagai target pelapisan:

Target logam: target tungsten, target molibdenum, target tantalum, target niobium, target zirkonium, target kobalt, target vanadium, target tembaga, target platinum, target hafnium, target niobium, target aluminium, target besi, target kromium, target paduan titanium-niobium , target paduan titanium-zirkonium, target paduan titanium-tungsten, target paduan titanium-gui, target titanium-aluminium, target paduan nikel-kromium, target paduan aluminium-kromium, target titanium kemurnian tinggi, target titanium kemurnian ultra-tinggi, target nikel kemurnian tinggi, target tantalum kemurnian tinggi, bahan Target polisilikon, target aluminium kemurnian ultra-tinggi, (99,95% -99,999%),

Klasifikasi: Target pelapisan ion multi-busur, target datar titanium, target tabung putar titanium, pelat belakang target titanium, tabung belakang target titanium

Penggunaan: pelapis alat, pelapis dekoratif, industri elektronik, industri layar panel datar, area luas pelapis kaca Low-E, semikonduktor, LCD, industri energi surya, lensa optik, industri optoelektronik, target pengikatan keramik, target penyemprotan, dll.