99.99% High Purity Titanium Target Titanium Round Target Strip Target sputtering target

Target titanium

Target sputtering dengan kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi meliputi:
Target sputtering (kemurnian: 99,9%-99,999%)
Target titanium Bahan target sputtering Titanium Digunakan untuk tampilan kristal cair, memori laser, pengontrol elektronik, bahan film tipis sputtering, sirkuit terpadu semikonduktor, fotovoltaik surya, media perekaman, layar datar, dan pelapis permukaan benda kerja
Target titanium Bahan target sputtering Titanium Digunakan untuk tampilan kristal cair, memori laser, pengontrol elektronik,

sputtering bahan film tipis
Target titanium Target sputtering titanium digunakan untuk sirkuit terpadu semikonduktor,

fotovoltaik surya, media perekaman, tampilan datar dan lapisan permukaan benda kerja

Kami menyediakan laporan pemeriksaan kualitas dengan barang,

yang menunjukkan komposisi kimia dan sifat fisik

T: Mengapa memilih kami?

A1: Kami memiliki 14 tahun pengalaman untuk pembuatan produk titanium.

A2: pesanan sampel dapat diterima.

A3: harga yang lebih rendah, kualitas yang baik dan waktu pengiriman yang singkat.

A4: Kutipan dapat dilakukan dalam waktu 24 jam.

A5: Sertifikasi ISO9001: 2015

A6: Beri kami gambar, buat gambar dan ide Anda menjadi kenyataan!

A7: Memberikan laporan pemeriksaan kualitas pihak ketiga.